工业气体乙炔瓶体温度不应超过40℃，夏天要防止曝晒。因瓶内温度过高会降低丙酮对工业气体乙炔的溶解度，而使瓶内乙炔的压力急剧增加。开阳氩气工业气体乙炔瓶不得靠近热源和电气设备。与明火的距离一般不小于10m（高空作业时应按与垂直地面处的两点间距离计算）。瓶阀冬天冻结，严禁用火烤。工业气体乙炔必要时可用40℃以下的热水解冻。乙炔减压器与瓶阀之间连接必须可靠。严禁在漏气的情况下使用。否则会形成工业气体乙炔与空气的混合气体，一旦触及明火就会立刻爆炸。氩气工业气体严禁放置在通风不良及有放射线的场所使用，且不得放在橡胶等绝缘物上。用时使用的工业气体乙炔瓶和氧气瓶应距离10m以上。如发现工业气体气瓶有缺陷，操作人员不得擅自进行修理，应通知安全督导员送回气体厂处理。

氧气是一种开发应用较早的工业气体，现已广泛应用于国民经济和社会发展的各个领域。其主要用于金属焊接、切割和各种燃烧装置的助燃气体以及某些工艺过程的氧化气体等。冶金工业包括钢铁冶炼、有色金属冶炼过程都大量使用开阳氩气氧气，其明显作用是强化冶炼过程，达到增产节能。机械工业应用氧气进行金属焊接、切割能大大提高工效。化工行业应用氧气制造医药、染料、炸药等化工产品，此外还用来强化生产，如用吹氧法生产黄磷、喷氧气化劣煤等。电子工业应用氩气氧气，除用作助燃气体外，还是制造半导体集成电路的氧化气体，是该行业不可缺少的高纯气体之一；高纯氧气还是制造光导纤维的重要气体原料。氧气在国防上用途很广，用量较大的是火箭。

氮气主要用作保护气体、吹扫气体、载气、干燥气体等。在金属热处理工艺过程中氮气作为保护气体，目的是为提高金属材料、零件的质量、光洁度等。在电子工业中开阳氩气高纯氮气是半导体集成电路生产工艺不可缺少的保护气、载气。在石化行业中氮气作为保护气、载气，目的是确保石化生产的顺利、安全运行，氮气也是合成氨生产的主要原料气。在建材工业的浮法玻璃生产中，氮气作为锡槽的主要保护气，以实现浮法生产工艺和提高玻璃质量。此外，可以利用氧作氧化剂进行磁流体发电；利用氧气净化污水，利用氩气氧气在采矿业中进行深井作业；利用氧气进行深海打捞，潜水作业；利用氧气抢救窒息病人，临危病人；利用氧气保健，如高原登山运动员、地质人员、边疆巡逻战士等特殊人群使用和一般人员泡氧吧等。

三氯氢硅装卸方法为利用压缩机密闭状态装卸。用氩气压缩机抽出储罐中的三氯氢硅混合气体，压入槽车中，此时储罐内的压力降低，槽车内的压力升高，槽车和储罐间形成一定的压差，这样槽车内的三氯氢硅液体就借此压力被压送到储罐中，反之则将储罐中的三氯氢硅液体压送到槽车内。三氯氢硅卸液必须严格遵守操作规程，操作人员应掌握本岗位的操作技术和防火要求，精心操作，随时监控压力表、液位计;在卸液是发动机应熄火，开阳氩气储罐内的三氯氢硅应停止使用，并有专人监护，雷雨天停止卸液。在卸液过程中还容易产生静电，应采用材质好且光滑的运输管道;槽车装卸液前，设备、管道都要先接好静电接地线，必须保持有效长度的接地拖链;卸液时严格控制流速，流速应控制在0.7~2m/s，以防止产生静电。

在反应瓶和加料漏斗里分别装入1.14g LiAlH4于70mL乙醚中的溶液和2.30mL SiCl4于50mL乙醚中的图硅烷的制备装置溶液。氩气在整个合成过程中，把冷浴和指型冷却管分别保持在-15～-20℃和-78.5℃。将仪器抽空后，乙醚开始回流，此时必须要注意避免过多的骤沸。然后，将靠近反应装置的U形管接收器冷却到-95℃(用甲苯冻膏)，其余四个接收器冷却到-196℃(液氮)。在搅拌下，用15min将SiCl4+乙醚溶液加入到LiAlH4悬浮液中。开阳氩气为了避免乙醚剧烈回流，使甲硅烷连续地以中等速度分出。调节反应器和真空管路之间的玻璃活塞便可以容易地控制反应速度。将SiCl4加完后，继续搅拌15～20min，以保证反应完全。在此期间，将反应器和真空系统切断以免乙醚逃逸过多。当甲硅烷从真空系统排净之后，将空气通入反应器，拆开真空系统。