高纯氩气主要用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等气体氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时，水分也小于1ppm时，制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求。一般液氩汽化后未经过纯化处理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围，但使用习水气体氩气的客户确不知道其质量，所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何，只要经过纯化装置的处理后，进入拉晶炉的氩气，纯度始终是恒定的。

氦质谱检漏仪用氦气作示漏气体，以气体分析仪检测氦气而进行检漏的质谱仪。是一种应用于国内外的真空容器检漏先进技术。与一般的检漏技术相比，习水气体氦质谱检漏技术快速、准确、灵敏度高及无损伤性等优点。氦质谱检漏仪的示踪气体也可以是其他元素。但通常选用氦气，因为氦气具有以下特性：氦气在空气中的含量极少，只占约二十万分之一，易于发现；氦分子小、质量轻、易扩散、比其它气体易穿越漏孔；氦离子荷质比小，易于进行质谱分析；氦气是无毒、无味，对大气无污染。气体氦气是惰性气体，化学性质稳定，不会腐蚀和损伤设备；氦气无毒，不凝结，极难容于水。正因为氦气具有以上特性，所以氦气检漏应用已从科研院所到工业企业乃至到个体企业，可以说应用领域极其宽广。

在反应瓶和加料漏斗里分别装入1.14g LiAlH4于70mL乙醚中的溶液和2.30mL SiCl4于50mL乙醚中的图硅烷的制备装置溶液。气体在整个合成过程中，把冷浴和指型冷却管分别保持在-15～-20℃和-78.5℃。将仪器抽空后，乙醚开始回流，此时必须要注意避免过多的骤沸。然后，将靠近反应装置的U形管接收器冷却到-95℃(用甲苯冻膏)，其余四个接收器冷却到-196℃(液氮)。在搅拌下，用15min将SiCl4+乙醚溶液加入到LiAlH4悬浮液中。习水气体为了避免乙醚剧烈回流，使甲硅烷连续地以中等速度分出。调节反应器和真空管路之间的玻璃活塞便可以容易地控制反应速度。将SiCl4加完后，继续搅拌15～20min，以保证反应完全。在此期间，将反应器和真空系统切断以免乙醚逃逸过多。当甲硅烷从真空系统排净之后，将空气通入反应器，拆开真空系统。

在炼钢过程中吹以气体高纯度氧气，氧便和碳及磷、硫、硅等起氧化反应，这不但降低了钢的含碳量，还有利于清除磷、硫、硅等杂质。产生的热量足以维持炼钢过程所需的温度，缩短了冶炼时间，同时提高了钢的质量。高炉炼铁时，提高鼓风中的氧浓度可以降焦比，提高产量。重金属冶炼中，火法冶炼占主要地位，除靠硫和铁氧化放热外，还需靠燃料燃烧提供热量。为了强化冶炼过程，降低能耗，减少有害烟气量，采用富氧代替空气进行熔炼，同时可提高设备的生产能力。 在生产合成氨时，习水气体氧气主要用于原料气的氧化。例如，重油的高温裂化，以及煤粉的气化等，以强化工艺过程，提高化肥产量。

使用的医用氧必须有卫生部门批准的药品批号。有权批准药品批号的只有各省、自治区、直辖市的卫生局（厅）。气体小编告诉你还有医用氧是有保质期的，一般从生产日期开始计算为12个月，氧气在使用前应严格检查是否过保质期.医用氧区别工业氧的重要一条，医用氧含水≤0.07％，也就是说水含量非常少，这样少的水分不足以液态的形式存在，只能以水蒸气的形式存在。相反，工业氧含水量较多，水分以液态形式存在，即游离水状态。水压检测是确保氧气瓶安全性的重要手段。按照国家要求，医用氧气瓶每隔3年必须进行水压检测，以确保氧气瓶的安全性。习水气体小编告诉你因为工业氧含有杂质，导致钢瓶内壁锈蚀，随着时间的推移，工业氧气瓶内的锈蚀程度逐渐加重，稍微打开氧气瓶的开关，开关不能开启过大，就能够闻到浓烈的异味。

气体汇流排是一种集中充气或供气的装置，它是将多只钢瓶气体通过阀门、导管联接到汇流总管，以便同时对这些钢瓶充气；习水气体或者经减压、稳压后由管道输送到使用场所的专用设备，以保证用气器具的气源压力稳定可调，并达到不间断供气的目的。汇流排：指瓶装高压气体，通过此设备减压到一定的使用压力，是集中供气体的一种设备。汇流排由左右两根汇流主管道组成，中间有四只高压阀门，分别控制左右两组汇流管，每组有相当数量的分阀，软管及卡具连接气瓶，中间装有一块高压表，用来检测汇流管内的压力，气体高压阀门上方分别有两组减压器，以便控制调节使用压力及流量，减压器上方分别有两只低压阀门，用来控制两排汇流切换时的低压气体，汇流低压主管道装有一只低压总阀门，用来控制低压管道的气体。